【手機(jī)中國新聞】9月15日，手機(jī)中國注意到，天眼查App顯示，上海創(chuàng)消新技術(shù)發(fā)展有限公司申請的“5納米芯片制造的直接蝕刻方法”專利公布。摘要顯示，該發(fā)明涉及芯片設(shè)計及制造，方案是：按5nm蝕刻線寬設(shè)計芯片版圖，設(shè)計蝕刻掩模版后，用激光直寫光刻機(jī)刻出蝕刻掩模版；晶圓準(zhǔn)備好后將蝕刻掩模版緊靠晶圓上表面，用等離子體進(jìn)行干法蝕刻，蝕刻結(jié)束后移去蝕刻掩模版，清潔晶圓，進(jìn)行后續(xù)常規(guī)的芯片制造步驟。這項(xiàng)發(fā)明的亮點(diǎn)在于，不用EUV光刻機(jī)或DUV光刻機(jī)，不需要光刻過程，直接蝕刻就可以制造5納米芯片。

天眼查顯示，上海創(chuàng)消新技術(shù)發(fā)展有限公司成立于2019年3月，法定代表人為劉明革，注冊資本50萬人民幣，經(jīng)營范圍包括電子技術(shù)、化工技術(shù)、建筑技術(shù)、生物技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā)等，由劉明革和劉佳慧共同持股。

未來幾年，我們期待上海創(chuàng)消新技術(shù)發(fā)展有限公司能夠在芯片制造領(lǐng)域取得更多的突破性成果，并將這項(xiàng)新技術(shù)推向商業(yè)化階段。對于整個半導(dǎo)體行業(yè)來說，這種創(chuàng)新技術(shù)的出現(xiàn)無疑帶來了新的希望和動力，推動行業(yè)不斷向前發(fā)展，邁向更先進(jìn)的制造工藝和更廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域。盡管目前這項(xiàng)技術(shù)還處于實(shí)驗(yàn)室階段，但是其潛在的影響力不容忽視。